
压稳定性(>4.3V),且所用材料均为成熟的工业化产品,具备极高的产业化竞争优势。 【本文结束】如需转载请务必注明出处:  
sp; 4月13日,公司回答表示,在半导体光刻胶领域,公司现有i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料光刻胶稳定量产;半导体先进封装用厚膜负性光刻胶已完成验证且正在向客户端导入,尚未实现量产。具体应用需视下游客户的工艺要求而定,目前相关产品对公司营收业绩影响较小。
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